应半导体所材料科学重点实验室的邀请， 2011年5月18日上午，瑞典Chalmers University of Technology的孙捷博士来半导体所进行学术交流。孙捷博士作了题为“Copper catalyzed chemical vapor deposition of graphene: material growth, film transfer and device characterization”的学术报告，报告由陈涌海研究员主持，实验室相关领域的老师和同学参加了报告会。

孙捷博士系统地介绍了以铜为催化剂的化学气相沉积制备石墨烯的方法，石墨烯薄膜的湿法转移技术，以及石墨烯器件光学和电学性质表征的最新进展，尤其对石墨烯的衬底转移手段进行了精辟的阐述，细致地介绍了自己工作中的各种经验，并与在座的老师、同学进行了热烈的讨论和交流，使大家受益匪浅。

孙捷博士的来访，对实验室的材料研究工作，对双方进一步加强合作关系具有积极的促进作用。